ENTEGRIS過程監控器SemiChem APMi 200

以耐用、可靠的在線平台提供實驗室質量測量。Entegris 是設計和生產用於半導體製造工藝中的化學機械研磨 (CMP) 漿料和配製清洗劑的高精度分析儀器的市場供應者。我們的技術旨在確保複雜混合化學藥劑的準確一致性，並實現 CMP 和配製清洗工藝的高產率。我們的 SemiChem 高等級工藝監控器（APM）是一種濕化學監控係統，可自動采樣、分fen析xi和he報bao告gao關guan鍵jian工gong藝yi的de定ding量liang化hua學xue濃nong度du。完wan整zheng的de在zai線xian化hua學xue監jian測ce可ke實shi時shi修xiu正zheng槽cao液ye成cheng分fen，從cong而er穩wen定ding控kong製zhi工gong藝yi條tiao件jian。該gai係xi統tong可ke提ti供gong化hua學xue濃nong度du數shu據ju。當dang變bian化hua立li即ji顯xian現xian時shi，可ke能neng對dui產chan品pin質zhi量liang產chan生sheng負fu麵mian影ying響xiang的de變bian化hua可ke以yi迅xun速su得de到dao糾jiu正zheng，從cong而er幫bang助zhu滿man足zu零ling缺que陷xian容rong忍ren度du和he更geng高gao產chan品pin產chan量liang的de要yao求qiu。

提供業界準確的監測，以保持工藝化學成分和完整性

在產品質量下降之前檢測揮發性化學物質的工藝偏差

將實驗室技術轉化為工藝
，實現快速準確的工藝控製

平均故障間隔時間 (MTBF) > 8500 小時

提供化學濃度數據，使漿料/化學品分配係統能夠提供準確的化學濃度

多個采樣點、附加 5 毫升數字滴定管、附加傳感器、聯鎖
、試劑低濃度檢測

產地：美國

分析方法：電位計法、標準添加法、光度法

電位計精度：顯示值的± 0.2

標準添加精度：± 2.0 %示值

電位計精度：± 0.2 % 相對誤差

標準添加精度：± 2.0 % 相對誤差

測量時間：> 5 分鍾/分析（視應用而定）

校準間隔：啟動時

樣品消耗量：< 5 mL/次分析

樣品量：0.05 至 5 mL（根據應用而定）

樣品溫度：高達 93 °C (200 °F)

耗水量：< 1000 mL/分析

樣品入口/回流：<207 kPa (30 psi)
，0.5 L/min
；1/4" 外徑擴口接頭，1" FPT 密封接頭

去離子水：138 至 276 kPa (20 至 40 psi)

；2.0 L/min；1/4" 外徑擴口接頭

CDA：414 至 552 kPa（60 至 80 psi）；1/4 英寸外徑快速接頭

排水口 工藝：3/4 英寸 NPT 重力排水口；櫥櫃：1/2 英寸 NPT 重力排水口

電源：110/220 VAC，50/60 Hz
，1/0.5 A 現場可切換

排氣：1-7/8" OD @ 17 CFM

用於控製金屬 CMP 濃度、在微電子環境中的所有濕化學應用中均表現良好，包括：銅
、鎢、阻擋層和金屬 CMP、配方清潔
、DSP+、濕蝕刻、氮化物蝕刻、PAN 蝕刻、Piranha 蝕刻、高頻、廢水