ENTEGRIS粒度分析儀Mini DLS

用於 20 nm至 2 μm的nm顆粒和乳液的在線粒度分析儀。nm顆粒現已成為許多工業產品的標準材料。與大多數其他工藝一樣，nm顆粒的生產也需要進行測量，以便進行控製。動態光散射（DLS）測量傳統上使用實驗室儀器，如 Entegris Nicomp 係統，但 Entegris 顆粒測定團隊也擁有多年的在線經驗。Mini DLS 以這些年的經驗為基礎，開發出一種靈活
、優雅的解決方案，可適用於各種nm粒子製造工藝，包括研磨
、均質或自組裝。懸浮產品的加壓流連接到 Mini DLS xitong。ranhouzidongxishiyangpin，shiqidadaoshidangdeguangsansheqiangdu
，yibianjinxingceliang。cedinglidufenbuhou
，xitonghuizidongchongxiheqingjie，ranhouzhongfuceliangguocheng。

基於動態光散射 (DLS) 的靈活協議可優化測量應用

自動采樣和測量
，節省操作員和實驗室資源

可追蹤粒度分布變化的連續數據

輕鬆將數據傳輸到過程監測控製軟件

外部冷卻泵

產地：美國

粒度範圍：20 nm  至  2 μm（取決於樣品）

濃度：0.1 至 10 wt%

原理：動態光散射 (DLS)

測量角度：90 度

Min樣品量：2 mL

精度：± 10 % 90 nm PSL 的認證平均值

激光：35 mW，639 nm

檢測器：PMT

尺寸（長×寬×高）：26 × 12 × 45 英寸（66 × 30 × 115 cm）

重量：72 磅（33 千克）

外殼：不鏽鋼

樣品溫度： 4 至 40 °C（39 至 104 °F）內部控製範圍

Max稀釋液壓力：20 psi

稀釋液過濾器：0.22 μm

流速：0.1 至 35 mL/min

控製方式：觸摸屏

外部觸發：3.3 V 輸入

輸出：RS 至 232 JSON；強度加權高斯平均值；標準偏差；奇平方；按通道號分布；錯誤狀態和描述（如適用）

防護措施：檢漏儀

環境：限室內使用

溫度範圍：4 至 27 °C (40 至 80 °F)

濕度範圍：0 至 80 %

海拔範圍：0 至 2000 米

乳劑
、特種化學品
、均質機或微流體器的下遊
，用於控製壓力或通過次數，以達到所需的粒度
、脂質體和其他脂質nm顆粒的製造、製造其他的nm顆粒、製造用於 CMP 泥漿的研磨劑

、其他nm顆粒懸浮液或乳液