產品介紹
16.2 HV擺動隔離閥兼具可靠的隔離性能與低顆粒計數及低顆粒活化特性。其卓絕的顆粒性能得益於平滑的啟閉動作。
該閥門特別適用於蒸發器和濺射等惡劣工藝環境中的隔離需求。16.2閥提供三位置氣動單作用帶閉合彈簧或標準氣動單作用帶閉合彈簧兩種配置。
其特殊分體式閥體設計無需拆卸管道連接或工藝腔連接即可維護。纖薄結構可直接安裝於工藝腔體，省去傳統腔體-閥門-泵連接所需的額外容積。
憑借堅固設計與多樣化配置選項，16.2係列可輕鬆集成於各類真空工藝流程。
該係列已在全球數百套批量及在線生產係統中投入使用，經受各種工藝條件考驗，其卓絕性能在各方麵均得到充分驗證。
16.2 HV擺動隔離閥提供鋁製版本，閥體經硬質陽極氧化或鍍鎳處理，配備符合ISO-F、ASA-LP和JIS標準的法蘭連接件。可集成客戶定製法蘭。其他選項包括粗排（旁通）口、排氣口或儀表接口、加熱解決方案，以及帶硼矽酸鹽玻璃或藍寶石玻璃視窗的閥板。
性能特點
在惡劣工藝環境中實現可靠隔離
低衝擊運行，低顆粒活化
工藝惰性——極低殘餘脫氣量（RGA）
高運行時間
低運行成本
可根據工藝要求調整
技術參數
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產地 |
瑞士 |
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尺寸 |
DN 200 (8“)，DN 250 (10”)，DN 320 (12")，DN 350 (14“)，DN 400 (16”)，DN 500 (20") |
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執行器 |
氣動型：單作用帶關閉彈簧（常閉） |
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三位置氣動型：單作用帶關閉彈簧（常閉） |
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閥體材質 |
鋁合金 |
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穿壁件 |
旋轉式穿壁件 |
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標準法蘭 |
ISO-F、ASA-LP、JIS |
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泄漏率 |
閥體、閥座：< 1 × 10⁻⁸ mbar·l/s |
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壓力範圍 |
1 × 10⁻⁸ mbar 至 1.2 bar (abs) |
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閥板差壓 |
≤ 1.2 bar |
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開啟差壓 |
DN 200：≤ 10 mbar |
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DN 250 - 500：≤ 5 mbar |
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初次維護前循環次數 |
200 000 |
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溫度 |
閥體：≤ 120 °C |
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執行器：≤ 80 °C |
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電磁閥：≤ 50 °C |
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位置指示器：≤ 80 °C |
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加熱/冷卻速率 |
≤ 30 °C·h⁻¹ |
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材質 |
閥體、閥板、密封環 |
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DN 200-400：EN AW-5083 (3.3547)，EN AW-6082 (3.2315) |
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DN 500：EN AC-42100 (3.2371) |
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導管（與介質接觸部件）：AISI 303 (1.4305), AISI 304 (1.4301) |
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密封件 |
閥蓋、閥板、動力密封、導管：氟橡膠（Viton） |
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安裝位置 |
任意 |
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電磁閥 |
24 V直流，5.4 W（其他規格可定製） |
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位置指示器 |
電壓：≤ 50 V交流/直流 |
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電流：≤ 1.2 A |
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閥門位置指示 |
視覺（機械式） |
產品應用
半導體製造
蒸發與濺射設備：在真空鍍膜工藝中，16.2閥門隔離不同工藝腔體，防止材料交叉汙染，同時低顆粒特性保障鍍膜質量。
晶圓傳輸係統：作為真空傳輸閥，其緊湊設計與高可靠性確保晶圓在真空環境中安全傳輸，減少生產中斷風險。
科研與高真空實驗
同步加速器與粒子加速器：閥門需在惡劣真空條件下長期穩定運行，16.2係列的低放氣率與高密封性滿足實驗需求。
表麵分析設備：在X射線光電子能譜（XPS）等分析中，閥門隔離真空係統與外界，避免樣品汙染，確保數據準確性。
工業真空工藝
真空滅菌設備：閥門準確控製氣體流量，確保滅菌過程真空度穩定，提升滅菌效率。
津公網安備12010102000946號
